1. 電感耦合（Inductively Coupled Plasma, ICP）：

電感耦合等離子體是通過高頻磁場與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電感耦合的過程中，高頻電流通過螺線管產(chǎn)生高頻磁場，高頻磁場切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點是穩(wěn)定性好，能量傳遞高效，適用于高密度等離子體的產(chǎn)生，廣泛應用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領域。

2. 電容耦合（Capacitively Coupled Plasma, CCP）：

電容耦合等離子體是通過交變電場與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電容耦合的過程中，兩個電極之間施加高頻交變電壓，由于等離子體與電極之間的電容效應，導致等離子體內(nèi)部產(chǎn)生高頻電場，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點是結(jié)構簡單，能量傳遞相對低效，適用于低密度的等離子體產(chǎn)生，常用于等離子清洗、薄膜沉積等應用場景。

總結(jié)：

電感耦合和電容耦合的主要區(qū)別在于能量傳遞的方式，電感耦合通過高頻磁場傳遞能量，適用于高密度等離子體；而電容耦合通過交變電場傳遞能量，適用于低密度等離子體。根據(jù)實際應用場景和等離子體要求，可以選擇不同的能量傳遞方式。